摩方首台微纳米3D打印系统P120出货阿联酋马斯达尔理工学院

    2017年5月12日，阿联酋马斯达尔理工学院(Masdar Institute of Science and Technology) 首次接收由摩方BMF出品的微纳米尺度3D打印系统设备nanoArch™ P120。

    nanoArch™采用PμLSE（面投影微立体光刻）技术，是用于实现高精度多材料微纳尺度3D打印的设备。其通过将紫外光投影到液态树脂表面使其固化，逐层累加从而完成产品的制作，即通过一次曝光可以完成一层的制作。

    nanoArch System 是基于PULSE技术(面投影微立体光刻技术)的微纳米级3D打印系统，PμLSE技术(面投影微立体光刻技术)被认为是目前最有前景的微纳加工技术之一。

    nanoArch用于实现高精度多材料微纳尺度3D打印，微结构分辨率可达0.5μm，具备成型效率高、生产成本低、打印精度高等突出优势。根据客户的不同需求，BMF Material提供可定制的一体化解决方案。

    在微纳加工领域，BMF Material拥有多年的实践经验，针对客户在设备使用中可能出现的工艺难题，提供简易高效的技术支撑方案；并可帮助客户挖掘广泛的科学家研究网络，促进材料研究。因此，nanoArch™ P120作为BMF摩方高端产品系列之一，其可根据客户需求，定制开发，拥有开放的树脂材料平台：可使用多种类树脂材料，可功能升级、模块改造，电气接口完备，并且还能自主开发软件方案，最难得是的该系统可实现多种打印及负面，精度最高可达0.5μm。

nanoArch™ P120 打印参数：

耗材要求：兼容各种中、低粘度405nm波长光固化树脂体系使用材料：

应用行业：

(1) 科研类

ž  X.Zheng, W.Smith, J.Jackson, B.Moran, H.Cui, D.Chen, J.Ye, N.Fang, N.Rodriguez, T.Weisgraber & C.M.Spadaccini, "Multiscale Metallic Metamaterials", Nature Materials,15(10):1100 (2016)

ž X. Zheng, H. Lee, T. H. Weisgraber, M. Shusteff, J. DeOtte, E. B. Duoss, J. D. Kuntz, M.M. Biener, Q. Ge, J. A. Jackson, S. O. Kucheyev, N. X. Fang, C. M. Spadaccini, “Ultralight, ultrastiff mechanical metamaterials”, Science, Vol 344(6190), 1373-7(2014).

ž Z.Liu, H.Lee, Y.Xiong, C.Sun,and X,Zhang, "Far-Field Optical Hyperlens Magnifying
Sub-Diffraction-Limited Objects" Science 315(5819):1686 (2007)

ž N.Fang, H.Lee, C.Sun, and X.Zhang, "Sub-Diffraction-Limited Optical Imaging with a Silver Superlens", Science,  308(5721), pp534-537, (2005)

(2)轻量化材料

应用领域：航空/航天/汽车

(3)光学元器件

应用领域：手机/VR/相机